Molecular Imprints 交付新一代壓印模塊系統用於半導體存儲器生產

-- Molecular Imprints 本季度將交付三套新一代壓印系統，其中兩套預計將交付給一家領先的半導體集成器件製造商。

德克薩斯州奧斯汀2013年4月23日電 /美通社/ -- 先進半導體光刻及納米圖案成形系統與解決方案的市場與技術領導商 Molecular Imprints, Inc.（簡稱 MII）今天宣佈，該公司預定於本季度首先交付三套先進壓印模塊，這些模塊將被整合進 MII 設備合作夥伴的光刻機系統中。模塊採用了 MII 專有的最新 Jet and Flash™ 壓印光刻 (J-FIL™) 技術，這項技術具備大批量生產規格小於20納米的先進半導體存儲設備所需的性能。

（圖標：http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO）

Molecular Imprints 行政總裁 Mark Melliar Smith 表示：「我們最新交付的壓印模塊採用了增強型的放大控制和曝光技術，以及更好的機上光刻膠過濾、實時精密機器控制和升級版的光刻膠噴射注系統，能夠大幅降低缺陷率、提高產量和覆蓋準確度以及降低總擁有成本。在實現所有這些改進的同時還可以降低系統平臺成本和減小產品尺寸。我要祝賀我們的開發和工程團隊完成了又一項出色的產品設計和開發任務，並要感謝我們的設備合作夥伴給予的大力支持與協作。我們期待在今年晚些時候看到這些系統在我們半導體客戶的生產設備中發揮作用。」

Molecular Imprints, Inc. 簡介

Molecular Imprints, Inc. (MII) 是半導體與硬盤驅動器行業高分辨率、低擁有成本納米圖案成形系統和解決方案的技術領導商。MII 將憑藉其創新的 Jet and Flash™ 壓印光刻 (J-FIL™) 技術成為存儲設備大批量圖案成形解決方案的全球市場和技術領導商，並為新興市場顯示器、清潔能源、生物技術等行業的發展提供支持。MII 通過提供價格適中、可兼容且分辨率可擴展至小於10納米的全方位納米圖案成形解決方案來支持納米級納米製造。查詢詳情或關注該公司的微博，請瀏覽：www.molecularimprints.com。

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Paul Hofemann
Molecular Imprints, Inc.
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