Mentor Graphics 支援通用驗收環境

用於三星和格羅方德14奈米鰭式場效電晶體

俄勒岡州威爾遜維2014年6月3日電 /美通社/ -- 繼三星電子和格羅方德 (GLOBALFOUNDRIES) 宣佈一項戰略合作進行多源14奈米鰭式場效電晶體製造之後，Mentor Graphics Corp. (NASDAQ: MENT) 今天透露，客戶將能夠使用相同的 Calibre® 平臺用於驗收驗證迎向三星或格羅方德晶圓廠生產線的積體電路設計。通用性已經延伸至可製造性設計 (DFM) 評分，幫助客戶確保其設計得到充分優化，能夠较大程度地利用先進的14奈米鰭式場效電晶體製造工藝。「製造分析和評分”(MAS) 平臺可區分不同 DFM 效果的優先次序，並針對如何更改設計以最小化這些影響提出建議。

(Photo： http://photos.prnewswire.com/prnh/20140317/AQ83812LOGO )

14奈米鰭式場效電晶體的驗收包括用於雙重曝光設計規則檢查、版圖與原理圖對查比較、模式匹配驗證、光刻友好型設計以及先進填充製造設計的平臺。在14奈米驗收套件中納入 DFM 評分平臺開了產業之先河，可確保一致的驗收環境。這是確保客戶供應戰略的關鍵因素，只有透過全球多個供應源的真正設計相容來實現。

14奈米鰭式場效電晶體工藝由三星開發，授權給格羅方德，經過優化適用於大容量節能系統晶片設計。其優勢包括三維全空乏鰭式場效電晶體，能夠克服平面電晶體技術的局限性，與20奈米平面技術相比，它的速度最多能提高20%，功耗減少35%，面積縮小15%。

三星電子晶圓代工行銷副總裁 Shawn Han 博士表示：「我們使用 Calibre 平臺作為我們設計規則手冊驗證的參考工具，因此 Calibre 平臺是我們客戶首先用到。由於 Calibre 是迎向我們主要客戶的領先驗收工具之一，我們將有很大的信心保證他們的14奈米鰭式場效電晶體設計在三星和格羅方德全球產能範圍內的任何一個晶圓廠都能用於生產。”

Calibre 平臺創造了分解式雙重曝光版圖，這符合三星所有的14奈米光刻要求，並針對三星光罩合成和有機光導體工藝進行了調整，Mentor 也提供14奈米工藝。它透過 Calibre 模式匹配為設計師提供了有關鰭式場效電晶體複雜設計規則的快速反應，並透過 Calibre LFD™ 產品提供詳細指導來消除 DFM 光刻錯誤，從而更快、更準確地修正違規行為。用於版圖與原理圖對查比較和萃取的 Calibre 工具已進行校正，來確保精確的設備和寄生模型用於三星鰭式場效電晶體。此外，Calibre SmartFill 可以實現平面化，同時透過智慧放置填充結構來最小化時間問題。

Mentor Graphics「設計至矽片”(Design to Silicon) 部門副總裁兼總經理 Joseph Sawicki 表示：「我們非常高興參與這項新的多源協作，這可以幫助無晶圓廠半導體公司獲得鰭式場效電晶體技術，率先取得矽成功和供應保障。Calibre 平臺的開放和我們對於三星最新技術的強大規則平臺支援為無晶圓廠客戶提供了更多的選擇和靈活性，幫助他們保持在其目標設備市場的領先地位。”

瞭解有關 Mentor Graphics 與三星之間合作的更多資訊，請光臨三星在6月2-4日三藩市設計自動化會議 (Design Automation Conference) 上的展位。具體日期和時間請參見 Mentor 和三星網站 (www.samsung.com/us/DAC2014)。

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