中微迎來第100台MOCVD Prismo A7(TM)反應腔付運里程碑

上海2017年10月23日電 /美通社/ -- 中微半導體設備有限公司（以下簡稱「中微」）日前宣佈，中微金屬有機化合物氣相沉積（MOCVD）設備Prismo A7™ 反應腔出貨量突破100台， 這是自去年中微MOCVD設備Prismo A7™第一次推向市場以來的一個重要里程碑。 Prismo A7™是中微第二代MOCVD設備，主要用來進行氮化鎵LED外延加工以及其他應用。 每台Prismo A7™ 設備可容納多達4個反應腔， 每個反應腔的產量是中微第一代MOCVD設備Prismo D-BLUE®的2倍多。

目前中微的MOCVD設備已在國內領先的生產線上進行大規模量產，它們是全球大部分LED晶片的生產製造商，包括三安光電和華燦光電。 中微自從正式發佈MOCVD 設備Prismo A7™以來，不斷地接到了新的訂單和重複訂單，銷售勢頭迅猛。 預計截至今年年底，中微將付運近120台MOCVD反應腔。

三安光電副董事長兼總經理林科闖稱，中微的MOCVD設備對三安的LED生產製造做出了很大的貢獻。 他指出：「中微的MOCVD設備具有優異的製程性能、較高的生產效率和較低的運營成本，我們和中微一起合作以滿足先進技術的要求。 此外，由於中微是一家本土知名的微觀加工高端設備公司，我們能夠較便利地獲得中微豐富的技術支援和現場快速回應支援。 我們很高興和中微合作。 」

中微資深副總裁、首席運營官兼MOCVD產品事業群總經理杜志游博士說：「我們感到很榮幸，能夠為我們尊貴的客戶提供可靠、可信賴的國產MOCVD設備，以滿足他們對於MOCVD這一關鍵設備的技術要求。 我們致力於通過不斷創新並為其生產線提供新的解決方案來幫助他們優化LED性能並降低生產成本。 我們非常感謝和他們的業務合作。 」

Prismo A7™：為LED超高產能而設計

中微MOCVD設備Prismo A7™研發的重中之重在於幫助客戶優化LED性能並降低基於氮化鎵LED的生產成本。 中微在設計機台時始終都致力於滿足日益嚴格的生產要求，緊湊的占地面積是中微機台設計中的一個特色，獨特的配置使中微的MOCVD設備可容納多達4個反應腔，同時加工136片4英寸外延晶片，並且每個反應腔都可以獨立控制。

為進一步達到優化性能、提高產量並降低生產成本的目標，中微在反應腔設計時特別關注氮化鎵外延的關鍵製程要求。這些要求包括：

優異的製程均勻性：中微通過多區氣體注入系統、具有獨特設計的氣體分配注入器和多區供熱系統，達到優異的均勻性；

較高的設備可靠性：中微的MOCVD設備使用了具有獨立自主智慧財產權的業內認可的操作軟體，以及成熟的自動化控制系統。 在設計、集成和測試中都遵循且符合SEMI標準，這些都使得中微的MOCVD設備具有較高的設備可靠性；

卓越的製程重複性：中微擁有獨立自主智慧財產權的特殊邊緣吹掃設計，以減少噴淋頭上的顆粒生成，使得中微MOCVD設備具有卓越的重複性；

簡便的操作性：中微的MOCVD設備採用了具有全自動化、可程式設計的反應腔開關系統，以及為更換MO源鼓泡器而定制化設計的真空管路，使中微MOCVD設備在連續加工過程中不需要開腔清洗或維修。 這一優勢大大提高了中微MOCVD設備的利用率。

中微MOCVD設備Prismo A7™已在中國大陸、臺灣、日本、韓國和美國等國家和地區申請專利155項（包括授權和未授權），它們是中微1000多項專利中的重要組成部分。

Prismo A7™是中微公司已申請的注冊商標。

中微半導體設備有限公司

中微公司致力於為全球積體電路和LED晶片製造商提供領先的加工設備和製程技術解決方案。 中微通過創新驅動自主研發的等離子體蝕刻設備和矽通孔蝕刻設備已在國際主要晶片製造和封測廠商的生產線上廣泛應用於45奈米到7奈米及更先進的加工製程和最先進的封裝製程。 目前，正在亞洲地區30多條國際領先的生產線上運行的中微反應台（包括介質蝕刻、TSV和MOCVD）已超過600個。 中微開發的用於LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備也已在客戶生產線投入量產。

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